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超音波霧化の噴霧に影響を与える要因はである何
超音波霧化の噴霧は従来の霧化の噴霧と異なっている。従来の噴霧は圧力および高速動きに小さいしぶきに液体をせん断する頼る。超音波噴霧は霧化のために超音波振動エネルギーだけ使用する。超音波霧化のスプレー装置は低負荷の消費および高性能による「緑の」技術とみなされ主流動適用のための理想的な選択である。
超音波霧化のスプレー システム、別名超音波噴霧器または超音波スプレー ノズルは、超音波振動非常に良いしぶきを作り出すことができる高い振動を別名「乾燥した霧」作り出す。超音波噴霧プロセスでは、非常に小さいしぶきの粒子がすぐに蒸発できるようにしぶきのサイズおよび配分は正確に制御することができそれにより高い比表面積区域の粒子を作り出す。
超音波霧化の噴霧は液体を粉砕するために高周波力学的エネルギーに電気エネルギーを変えるのに圧電効果を使用する。
超音波高周波振動が均一ミクロン サイズの粒子に液体を粉砕するのに使用されている。従来の圧力ノズルと比較されて、超音波に均一、より薄くおよびより制御可能なフィルムのコーティングを得るスプレー容器 ノズルを妨げることは容易ではない。超音波ノズルがkilopascalsの小さい空気容積だけを必要とし、ほとんどしぶきが噴霧プロセスの間にないので、ペンキの稼働率は90%高い。
超音波霧化の噴霧に影響を与える要因はである何:
1.しぶきのサイズ
超音波噴霧装置の頻度はより高い頻度、のサイズにしぶき影響を与える、より小さいしぶきのサイズ。20kHzの中央のしぶきのサイズは90ミクロンであり、40kHzで、しぶきのサイズは45ミクロンの平均に更に減った。
2. 霧化の成功か失敗
超音波エネルギーが余りに高ければ、キャビテーションは起こり、余りに高エネルギーは時期早尚に異なったサイズのしぶきにおよび「破損」貫流する液体を引き起こすノズルの先端によりの理想的なフィルムを粉砕されるべきノズルを形作らない。ある特定の力の下で発生する広さだけより理想的な霧化の効果を作り出すことができる。吹きかかる超音波霧化のために入力パワーのレベルは一般に約10から15ワットである。
3. 霧化の流れ
超音波粉砕のノズルの流れの範囲は一般に霧化のための液体の流れを破壊する空気の力に頼る必要がある従来の圧縮空気駆動式のノズルとは違って比較的大きい。従って、同じ解決の単位時間ごとのノズルによって粉砕される液体の量は粉砕のノズルを伴って使用される液体の伝達システムによって主制御である。