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太陽電池のコーティングのための超音波スプレーの技術

超音波スプレーの技術は両方で光起電結晶のケイ素（c Si）および薄膜の塗布使用される。、回転のコーティングを放出させる化学蒸気と比較されたとき超音波スプレーの技術は、技術（CVD）コーティングを転がし、霧のコーティングの技術は太陽電池に薄膜のコーティングを沈殿させるである場合もあるより費用効果が大きい方法。均一粉砕されたしぶきおよび低速度の高い均等性、非常にコーティング プロセスの間に原因でミクロンの厚い層がc Siおよび薄い太陽フィルムの細胞で形作ることができる。最低の無駄またはoversprayの加えられた利点はまた重要で物質的な節約をもたらす場合がある。

超音波スプレーの技術は次の化学と使用される:

添加物、吸収物、緩衝、有機物、等。

ホウ酸の添加物

カドミウムの塩化物（CdTe）の吸収物

硫化カドミウム（CD） – CIGS、CdTeの細胞で使用される緩衝層

銅のインジウム ガリウム セレン化物の（CIGSかシス形）吸収物

銅亜鉛錫の硫化（CZTS）吸収物

染料は感光性を与えた有機性太陽電池（DSC、DSSCまたはDYSC）に

P3HT

PEDOT

PCBM

リン酸はエミッターの形成の添加物を基づかせていた

Quantumの点（QD）

超音波スプレーがの首尾よくQuantumのいろいろな点に吹きかけるのに使用されていた。ZnOの両方フィルムおよびCDのQuantumの点はCVDのわずか費用で超音波スプレーの熱分解の沈殿技術を使用しておよび放出させる方法準備された。

透明な伝導性の酸化物（TCO）

錫の二酸化物（SnO2）

インジウムの錫の酸化物（ITO）

DSCの適用のnanowiresとして酸化亜鉛（ZnO）

カーボンnanotubes （CNT）

銀製のNanowires （AGNW）

Graphene

反射防止（AR）のコーティング

SiO2

TiO2

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