会社のニュース 超音波霧化の噴霧装置

超音波霧化の噴霧は小粒子に液体を押しつぶす圧力および高速動きに頼る従来の霧化と異なっている。超音波霧化の噴霧は液体を粉砕するのに高周波超音波振動エネルギーを使用する。液体は自身の重力か低圧ポンプによってスプレー・ヘッドに連続的か断続的な噴霧を達成するために渡すことができる。

より正確のとして超音波霧化の噴霧システムは、より制御可能で、より環境に優しいコーティングの適用、環境汚染そして資源の無駄遣いを減らす。コーティングの適用では、しぶきがはね返るかわりにマトリックスで解決しがちであるのでpressureless、低速スプレーの量を非常に減らすスプレー容器。現在、企業で広く利用された圧力スプレー装置および研究開発は超音波霧化の噴霧と取替えられた。

超音波霧化の噴霧は液体を粉砕するために高周波力学的エネルギーに電気エネルギーを変えるのに圧電効果を使用する。超音波高周波振動が均一ミクロン サイズの粒子に液体を粉砕するのに使用されている。従来の圧力ノズルと比較されて、超音波に均一、より薄くおよびより制御可能なフィルムのコーティングを得るスプレー容器 ノズルを妨げることは容易ではない。超音波ノズルがkilopascalsの小さい空気容積だけを必要とするので、ほとんどしぶきは噴霧プロセスの間にない、従ってペンキの稼働率は94%高い。音波の霧化のノズルのボディは顕著な音響の特性、高い引張強さおよび優秀な耐食性のためにチタニウム材料から成っている。